I 45 nm di Intel sulla catena di montaggio

Una fabbrica in Arizona avvia la produzione in volumi dei primi processori a 45 nanometri. L'impianto Ŕ progettato per ridurre al minimo l'impatto ambientale. I dettagli

Santa Clara (USA) - Negli scorsi giorni Intel ha inaugurato un nuovo impianto di fabbricazione dei chip a Chandler, in Arizona, dov'è stata appena avviata la produzione in volumi dei suoi primi processori a 45 nanometri, noti con il nome in codice Penryn.

Costato 3 miliardi di dollari, e battezzato Fab 32, il nuovo impianto produttivo viene definito da Intel "uno dei più ecocompatibili mai costruiti".

"L'innovativa tecnologia di processo a 45 nm di Intel consente di ridurre del 15% le emissioni di gas serra, e l'implementazione - all'interno dell'impianto - di un programma all'avanguardia per il riutilizzo idrico, consente di risparmiare oltre il 70% di acqua", si legge in un comunicato di Intel.
Nel nuovo impianto, Intel produrrà processori per PC, notebook e server, senza piombo e privi di alogeni, nonché CPU a bassissimo consumo energetico per i MID (Mobile Internet Device), l'elettronica di consumo e i PC a basso costo.

Grazie alla nuova tecnologia produttiva a 45 nm, Intel è stata in grado di ridurre del 25% il die di silicio dei suoi nuovi chip, portandolo a 107 mmq. Questo "dimagrimento" non avverrà a scapito della cache di secondo livello, che nei modelli non Extreme potrà essere di 6 MB: 2 MB in più rispetto agli attuali Core 2 Duo.

In base alla roadmap di Intel, il primo processore a 45 nm dovrebbe essere introdotto sul mercato il 12 novembre: si tratterà di Core 2 Extreme QX9650, una CPU con clock di 3 GHz che integrerà 12 MB di cache L2 e supporterà un front-side bus (FSB) a 1.333 MHz. Questo chip è destinato a rimanere il top di gamma fino all'introduzione, nella prima metà del prossimo anno, del modello QX9770, con frequenza di 3,2 GHz, FSB a 1.600 MHz e stessa dimensione della cache.

Pur impiegando circuiti a 45 nm, Penryn rappresenta un semplice aggiornamento dell'attuale architettura Core 2: le novità più importanti sono attese il prossimo anno, con il lancio dell'architettura Nehalem.

La Fab 32 è il sesto impianto di Intel per la produzione di wafer da 300 mm e la seconda struttura utilizzata per produrre chip a 45 nm. il chipmaker ha iniziato a produrre processori a 45 nm a gennaio nell'impianto di sviluppo situato nell'Oregon, denominato D1D. Per il prossimo anno è prevista l'apertura di altri due impianti di produzione da 45 nm e 300 mm, a Kiryat Gat, in Israele (Fab 28) e a Rio Rancho, in New Mexico (Fab 11x). Con i wafer da 300 mm è possibile ridurre, oltre i costi di produzione per ogni chip, anche l'utilizzo complessivo di risorse.

La struttura della Fab 32 si estende per circa 93mila metri quadrati, di cui 17mila metri quadrati sono dedicati alla cleanroom, una superficie talmente ampia che sarebbe possibile inserirvi più di 17 campi da football americano. L'impianto occuperà oltre mille dipendenti.