Austin (USA) – Un grande passo è appena stato compiuto nel settore delle tecnologie per il processo di stampa dei chip. Il consorzio Extreme Ultraviolet LLC ha infatti annunciato di aver prodotto il primo macchinario per la fabbricazione di chip con tecnologia Extreme ultraviolet lithography (EUV), primo prototipo di una futura linea di dispositivi in grado di produrre chip fino a 10 GHz di clock.
Fra le varie soluzioni concorrenti sviluppate negli ultimi anni, il processo litografico EUV, seguito da vicino da quello EPL (electron projection lithography), ha riscosso il maggior successo, come testimoniato anche da un recente studio della Sematech’s Next Generation Lithography (NGL).
Sembra dunque che l’EUV, appoggiato da colossi del calibro di Intel, AMD, Micron e Infineon, traghetterà i chip nel nuovo millennio superando la barriera dei 100 nanometri (0,1 micron) per arrivare, entro 10-15 anni, a 35 nanometri.
A partire da quest’anno, molti tra i più grandi chipmaker hanno annunciato il passaggio alla produzione di chip da 0,13 micron, fra cui Via , Intel e AMD . Si prevede tuttavia che questo processo produttivo potrà soddisfare le esigenze dei produttori di CPU fino al 2004, massimo 2005, dopodiché si passerà a 0,1 micron.
Secondo quanto dichiarato da Chuck Gwyn, uno dei program director dell’Extreme Ultraviolet LLC, i primi macchinari per la fabbricazione di chip con tecnologia EUV entreranno in commercio a partire dal 2005 e saranno inizialmente in grado di lavorare a 0,07 micron.
La tecnologia EUV dovrebbe essere capace di spingersi fino a processi da 30 nanometri, dopodiché, come ha affermato Gwyn, l’era del silicio potrebbe arrivare al termine.
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15 gen 2001