Livermore (USA) – Un grande passo è appena stato compiuto nel settore delle tecnologie per il processo di stampa dei chip. Il consorzio Extreme Ultraviolet LLC, insieme ad altri tre laboratori americani, ha infatti annunciato di aver prodotto il primo macchinario per la fabbricazione di chip con tecnologia extreme ultraviolet lithography (EUV), primo prototipo di una futura linea di dispositivi in grado di produrre chip con circuiti della dimensione di 0,03 micron.
Fra le varie soluzioni concorrenti sviluppate negli ultimi anni, il processo litografico EUV, seguito da vicino da quello EPL (electron projection lithography), ha riscosso il maggior successo, come testimoniato anche da un recente sondaggio della Sematech’s Next Generation Lithography (NGL).
A partire da quest’anno, un po’ tutti i più grandi chipmaker hanno annunciato il passaggio alla produzione di chip da 0,13 micron, fra cui Via , Intel e AMD . Si prevede che grazie al nuovo processo produttivo EUV i chip diverranno 10 volte più veloci degli attuali nel giro di cinque anni, con la produzione delle prime CPU a 10 GHz attesa per il 2006.
Secondo quanto dichiarato da Chuck Gwyn, uno dei program director dell’Extreme Ultraviolet LLC, i primi macchinari per la fabbricazione di chip con tecnologia EUV entreranno in commercio a partire dal 2005 e saranno inizialmente in grado di lavorare a 0,07 micron.
La tecnologia EUV, promossa da chipmaker del calibro di Intel, Motorola, AMD, Micron Technology, Infineon Technologies e IBM, dovrebbe consentire, in futuro, di produrre chip capaci di spingersi a 30 GHz di clock e contenere miliardi di transistor. Dopodiché, come ha affermato Gwyn, l’era del silicio potrebbe definitivamente volgere al termine.
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13 apr 2001